本發明提供了一種間歇式電沉積制備微米級和/或毫米級包覆型粉體的裝置及其處理方法，裝置包括電鍍槽、動力組件、陰極板、陽極板和電源；電鍍槽槽體一側設置動力組件，陰極板鋪設于電鍍槽底部，陽極板設于電鍍槽頂部且與陰極板相對設置，電源通過導線與陰極板和陽極板相連。本發明結合微米級和/或毫米級球形粉體自身的特點，通過電鍍槽繞中心軸進行左右往復轉動，使微米級和/或毫米級粉體得到充分攪拌，鍍層厚度均勻可控。在此基礎上結合法拉第電流定律，使裝置可以用于大規模生產微米級和/或毫米級包覆型金屬粉體。該生產微米級和/或毫米級包覆型粉體的裝置和方法具有低成本，可循環，易操作且可大規模生產特點，以滿足工業生產中的需求。

1.一種間歇式電沉積制備包覆型粉體的裝置，其特征在于，所述裝置包括電鍍槽(1)、
動力組件、陰極板(4)、陽極板(5)和電源(6)；
其中，電鍍槽(1)槽體一側設置動力組件，陰極板(4)鋪設于電鍍槽(1)底部，陽極板(5)
設于電鍍槽(1)頂部且與陰極板(4)相對設置，電源(6)通過導線與陰極板(4)和陽極板(5)
相連。
2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述動力組件包括電機(2)和電機傳動軸
(3)，所述電機(2)通過電機傳動軸(3)連接于電鍍槽(1)槽體一側。
3.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述動力組件帶動電鍍槽(1)繞電機傳動
軸(3)往復轉動。
4.根據權利要求3所述的裝置，其特征在于，所述動力組件帶動電鍍槽(1)轉動的角度
范圍為10°～60°。
5.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置包括動力控制裝置(7)，所述動力
控制裝置(7)與所述動力組件相連。
6.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置包括支架(8)，所述支架(8)支撐
電鍍槽(1)和動力組件。
7.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述電鍍槽(1)為封閉式電鍍槽。
8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述電鍍槽(1)為封閉式三維立體形狀。
9.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述電鍍槽(1)的形狀為圓柱體或四方體。
10.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述電鍍槽(1)與動力組件密封連接。
11.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述陰極板(4)的長度不大于電鍍槽(1)
的長度。
12.根據權利要求11所述的裝置，其特征在于，所述陰極板(4)的長度等于電鍍槽(1)的
長度。
13.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述陰極板(4)為二維平面圖形。
14.根據權利要求13所述的裝置，其特征在于，所述陰極板(4)為二維矩形狀。
15.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述陰極板(4)和陽極板(5)上下平行相
對設置。
16.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述陽極板(5)固定于電鍍槽(1)頂部內
壁。
17.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述陰極板(4)固定于電鍍槽(1)底部內
壁。
18.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述陰極板(4)的材質為金屬單質或金屬
合金。
19.根據權利要求18所述的裝置，其特征在于，所述陰極板(4)的材質為銅或不銹鋼。
20.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述陽極板(5)的材質為金屬單質或金屬
合金。
21.根據權利要求20所述的裝置，其特征在于，所述金屬單質為Cu、Sn、Cr或Ni中任意一
種。
22.根據權利要求20所述的裝置，其特征在于，所述金屬合金為Sn-Ag合金或Fe-Ni合
金。
23.根據權利要求1-22任一項所述的裝置的處理方法，其特征在于，所述方法包括以下
步驟：
將待電鍍的金屬粉體置于內置電鍍液的電鍍槽(1)中，在陰極板(4)和陽極板(5)上施
加脈沖電流并使得電鍍槽(1)進行轉動，使金屬粉體進行間歇式電鍍。
24.根據權利要求23所述的處理方法，其特征在于，所述待電鍍金屬粉體的粒徑為微米
級和/或毫米級。
25.根據權利要求23所述的處理方法，其特征在于，所述待電鍍金屬粉體為球形形狀。
26.根據權利要求23所述的處理方法，其特征在于，所述轉動為：繞電機傳動軸(3)以
10°～60°角度往復轉動。
27.根據權利要求23所述的處理方法，其特征在于，所述處理方法具體包括以下步驟：
(1)將待電鍍的金屬粉體置于內置電鍍液的電鍍槽(1)中；
(2)通過動力組件帶動電鍍槽(1)繞電機傳動軸(3)以10°～60°角度往復轉動；
(3)向陰極板(4)和陽極板(5)上施加脈沖電流，在一個施鍍周期內對粉體進行電鍍；
(4)電鍍結束后，通過動力組件帶動電鍍槽(1)繞電機傳動軸(3)以10°～60°角度往復
轉動；
(5)重復步驟(3)～步驟(4)，經過清洗和干燥后得到包覆型粉體。