一種用于制造三維物體的設(shè)備，包括：分光單元、圖像監(jiān)測設(shè)備、動態(tài)聚焦模塊、振鏡系統(tǒng)以及窗口鏡，激光器發(fā)出的激光全部通過所述分光單元后，經(jīng)過所述動態(tài)聚焦模塊的動態(tài)聚焦后到達(dá)所述振鏡系統(tǒng)，經(jīng)過所述振鏡系統(tǒng)、所述窗口鏡聚焦至三維物體制造設(shè)備的工作平面，所述工作平面的自發(fā)輻射光依次通過所述窗口鏡、所述振鏡系統(tǒng)、所述動態(tài)聚焦模塊后到達(dá)所述分光單元，經(jīng)所述分光單元反射后到達(dá)所述圖像監(jiān)測設(shè)備，所述圖像監(jiān)測設(shè)備通過接收的自發(fā)輻射光監(jiān)測熔池溫度大小及其溫度大小的變化。本發(fā)明實(shí)施例的方案不僅實(shí)現(xiàn)了對三維物體制造設(shè)備的在線實(shí)時(shí)的監(jiān)測，且可以用于對快速成型制造過程的參數(shù)的修改，可以提高快速成型制造的性能。

1.一種用于制造三維物體的設(shè)備，其特征在于，包括：分光單元、圖像監(jiān)測設(shè)備、動態(tài)聚
焦模塊、振鏡系統(tǒng)以及窗口鏡，激光器發(fā)出的激光全部通過所述分光單元后，經(jīng)過所述動態(tài)
聚焦模塊的動態(tài)聚焦后到達(dá)所述振鏡系統(tǒng)，經(jīng)過所述振鏡系統(tǒng)、所述窗口鏡聚焦至三維物
體制造設(shè)備的工作平面，所述工作平面的自發(fā)輻射光依次通過所述窗口鏡、所述振鏡系統(tǒng)、
所述動態(tài)聚焦模塊后到達(dá)所述分光單元，經(jīng)所述分光單元反射后到達(dá)所述圖像監(jiān)測設(shè)備，
所述圖像監(jiān)測設(shè)備通過接收的自發(fā)輻射光監(jiān)測熔池幾何形狀及其溫度變化，所述分光單元
的兩側(cè)分別設(shè)置有鍍膜層，所述激光器發(fā)出的激光全部通過所述分光單元兩側(cè)的各所述鍍
膜層，通過了所述動態(tài)聚焦模塊的自發(fā)輻射光通過靠近所述圖像監(jiān)測設(shè)備一側(cè)的鍍膜層反
射至所述圖像監(jiān)測設(shè)備。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造三維物體的設(shè)備，其特征在于，所述分光單元與通過
了所述動態(tài)聚焦模塊的自發(fā)輻射光的光傳輸?shù)膴A角為45度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造三維物體的設(shè)備，其特征在于，所述分光單元為分光
鏡。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造三維物體的設(shè)備，其特征在于，還包括光纖準(zhǔn)直頭，
所述激光器為光纖激光器，所述光纖準(zhǔn)直頭通過光纖與所述光纖激光器連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造三維物體的設(shè)備，其特征在于，所述三維物體制造設(shè)
備為選擇性激光熔融設(shè)備，所述激光的波長為1060-1080納米，所述自發(fā)輻射光包括波長為
400-980納米的可見光、波長為1100-2500納米的近紅外光。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造三維物體的設(shè)備，其特征在于，所述三維物體制造設(shè)
備為選擇性激光燒結(jié)設(shè)備，所述激光的波長為10.3-10.8微米，所述自發(fā)輻射光包括波長為
8-10微米的遠(yuǎn)紅外光、波長為11-14微米的遠(yuǎn)紅外光。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造三維物體的設(shè)備，其特征在于，所述圖像監(jiān)測設(shè)備為
長焦紅外攝像機(jī)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的用于制造三維物體的設(shè)備，其特征在于，所述圖像
監(jiān)測設(shè)備還通過接收的自發(fā)輻射光監(jiān)測光斑及光斑大小的變化，并將所述圖像監(jiān)測設(shè)備監(jiān)
測的所有數(shù)據(jù)發(fā)送給計(jì)算機(jī)終端設(shè)備。