本發(fā)明提供一種基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，包括：X射線屏蔽罩，高壓發(fā)生器，中低壓電源，水冷機，工控機，人機交互裝置及設置在所述X射線屏蔽罩內(nèi)的兩個面陣列X光源、兩個濾過器、一血袋架。兩個所述面陣列X光源相對設置在所述血袋架的兩側；兩個濾過器相對設置，且分別位于兩個所述面陣列X光源的相對的兩側，以對X射線進行低能過濾；所述血袋架設置于所述兩個濾過器之間；所述高壓發(fā)生器、所述中低壓電源、所述水冷機分別連接至兩個所述面陣列X光源及所述工控機；所述人機交互裝置連接至所述工控機，以控制所述高壓發(fā)生器、所述中低壓電源及所述水冷機的工作狀態(tài)。本發(fā)明的血液輻照系統(tǒng)輻照均勻、無需轉動、輻照效率高。

1.一種基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述血液輻照系統(tǒng)包括：X射線
屏蔽罩，高壓發(fā)生器，中低壓電源，水冷機，工控機，人機交互裝置及設置在所述X射線屏蔽
罩內(nèi)的兩個面陣列X光源、兩個濾過器、一血袋架；其中，
兩個所述面陣列X光源相對設置在所述血袋架的兩側；所述面陣列X光源由多個X射線
子發(fā)射單元排列組成，所述多個X射線子發(fā)射單元的光波疊加結果近似于平面波；兩個濾過
器相對設置，且分別位于兩個所述面陣列X光源的相對的兩側，以對所述面陣列X光源發(fā)射
的X射線進行低能過濾；所述血袋架設置于所述兩個濾過器之間，用于放置待輻照血制品；
所述高壓發(fā)生器、所述中低壓電源、所述水冷機分別連接至兩個所述面陣列X光源及所
述工控機；所述人機交互裝置連接至所述工控機，以控制所述高壓發(fā)生器、所述中低壓電源
及所述水冷機的工作狀態(tài)。
2.如權利要求1所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述血液輻照
系統(tǒng)包括一控制箱，所述高壓發(fā)生器、所述中低壓電源、所述水冷機及所述工控機設置在所
述控制箱中。
3.如權利要求1所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述面陣列X光
源為由M×N個所述X射線子發(fā)射單元排列組成的M×N陣列，其中M和N為整數(shù)，M≥1，N≥1。
4.如權利要求3所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述X射線子發(fā)
射單元包括陰極、柵極及陽極；
其中，在所述陰極和所述柵極之間的偏置電壓作用下，所述陰極因場致電子發(fā)射效應
而發(fā)射電子束，所述電子束轟擊所述陽極發(fā)射X射線；所述人機交互裝置根據(jù)所述陰極的發(fā)
射電流調整柵極電壓使所述發(fā)射電流為一恒定電流值。
5.如權利要求4所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述X射線子發(fā)
射單元包括聚焦極，所述聚焦極聚焦所述陰極發(fā)射的電子束，聚焦后的所述電子束轟擊所
述陽極發(fā)射X射線。
6.如權利要求3所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述X射線子發(fā)
射單元包括陰極和陽極；
其中，所述陽極接地，所述陰極接負高壓；在所述陰極和所述陽極之間的偏置電壓作用
下，所述陰極因場致電子發(fā)射效應而發(fā)射電子束，所述電子束轟擊所述陽極發(fā)射X射線；所
述人機交互裝置根據(jù)所述陰極的發(fā)射電流調整陰極電壓使所述發(fā)射電流為一恒定電流值。
7.如權利要求5所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述陰極接地，
所述柵極電壓的范圍為2kv至5kv，聚焦極電壓小于所述柵極電壓，陽極電壓為120kv至
160kv范圍內(nèi)的一正電壓。
8.如權利要求5所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述血液輻照
系統(tǒng)還包括一真空腔室，用于真空密封所述陰極、所述柵極、所述聚焦極及所述陽極；所述
真空腔室為玻璃封裝腔室、金屬陶瓷封裝腔室或金屬真空腔室；所述真空腔室的真空度為
10^-6～10^-11毫米汞柱；所述陽極通過陶瓷或云母與所述金屬陶瓷封裝腔室絕緣。
9.如權利要求6所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述血液輻照
系統(tǒng)還包括一真空腔室，用于真空密封所述陰極和陽極；所述真空腔室為玻璃封裝腔室、金
屬陶瓷封裝腔室或金屬真空腔室；所述真空腔室的真空度為10^-6～10^-11毫米汞柱。
10.如權利要求4至6任一項所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所
述陽極為透射靶或反射靶，所述透射靶的厚度小于100微米，由鎢或銀材料制成。
11.如權利要求8或9所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述真空
腔室中還設置有水冷裝置，設于所述陽極遠離所述陰極的一側，并連接所述水冷機；所述水
冷裝置由聚乙烯材料制成。
12.如權利要求4至6任一項所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所
述陰極為碳納米管陰極。
13.如權利要求12所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述碳納米
管陰極上設有碳納米管陣列，所述碳納米管陣列由化學氣相沉積法或電泳法制備得到。
14.如權利要求1所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，
所述X射線屏蔽罩的內(nèi)部頂壁設有監(jiān)控攝像頭和照明光源；
所述X射線屏蔽罩底部開設有一進風口，所述進風口裝設有空氣過濾網(wǎng)；
所述X射線屏蔽罩頂部設有排氣扇；
所述X射線屏蔽罩上設有報警裝置；
所述X射線屏蔽罩上開設有移動門，所述移動門與所述面陣列X光源形成門機互鎖；
所述X射線屏蔽罩上設有急停鍵，按下所述急停鍵，所述血液輻照系統(tǒng)斷電。
15.如權利要求14所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述血袋架
上設有溫度傳感器，與所述人機交互裝置連接，以監(jiān)測所述待輻照血制品的溫度，當所述待
輻照血制品的溫度高于一設定溫度時所述報警裝置發(fā)出報警信號。
16.如權利要求1所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，所述濾過器由
鋁或銅材料制成；所述X射線屏蔽罩由鉛皮制成；所述人機交互裝置為一觸摸屏；所述高壓
發(fā)生器通過高壓電纜與所述面陣列X光源連接，所述中低壓電源通過低壓電纜與所述面陣
列X光源連接；所述聚焦極為靜電聚焦或磁聚焦。
17.如權利要求1所述的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)，其特征在于，兩個所述面陣
列X光源左右相對設置或上下相對設置。