1.一種表征基板上的表面缺陷的方法，所述方法包括：提供相干輻射束；提供非平坦的鏡面基板；將該輻射束分成探針束和參考束；用第一反射元件截取并反射該探針束，以垂直輻照該基板上包含表面缺陷的局部表面，其中，該局部表面相對于該探針束的縱軸傾斜；用第二反射元件截取并反射該參考束；采集自該局部表面反射的探針束以及自該第二反射元件反射的參考束；將自該第二反射元件反射的參考束以及自該局部表面反射的探針束組合，從而形成由局部表面傾斜產生的第一組干涉條紋以及由表面缺陷產生的第二組干涉條紋；檢測第一組和第二組干涉條紋；用第一反射元件操控探針束，使由局部表面傾斜產生的干涉條紋的數目最?。皇褂脵z測到的、由表面缺陷產生的干涉條紋表征該缺陷。2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，該基板的厚度大于該輻射束的相干長度。3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，檢測步驟包括輻照傳感器上的二維像素陣列。4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，探針束經過的光程長度基本等于參考束經過的光程長度。5.如權利要求2所述的方法，其特征在于，該輻射束的相干長度小于300微米。6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，該第一反射元件繞兩個正交軸旋轉。7.如權利要求1所述的方法，其特征在于，該局部表面和表面缺陷位于基板上與第一反射元件相對的一面上。8.如權利要求1所述的方法，其特征在于，操控步驟包括對準探針束，使該探針束的縱軸基本垂直于該局部表面。
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