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用于過濾器暗渠排水塊的灌漿橋

  • 專利類型:發明專利
  • 有效期:不限
  • 發布日期:2022-08-25
  • 技術成熟度:通過小試
交易價格: ¥面議
  • 法律狀態核實
  • 簽署交易協議
  • 代辦官方過戶
  • 交易成功

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  • 技術(專利)類型 發明專利
  • 申請號/專利號 CN201710251923.8 
  • 技術(專利)名稱 用于過濾器暗渠排水塊的灌漿橋 
  • 項目單位 塞萊默水處理齊利諾普爾有限公司
  • 發明人 大衛 E·勒瑟,羅伯特 J·格林 
  • 行業類別 其他領域
  • 技術成熟度 通過小試
  • 交易價格 ¥面議
  • 聯系人 尤建發
  • 發布時間 2022-08-25  
  • 01

    項目簡介

    本發明公開了一種過濾系統,其包括以并排構造布置的多個暗渠排水塊,從而在其間限定有間隙,該間隙被構造成用來接收灌漿。每個暗渠排水塊包括頂壁、底壁和連接所述頂壁和所述底壁的多個側壁。灌漿橋被布置在相鄰暗渠排水塊之間的間隙中,以在灌漿橋和相鄰暗渠排水塊的相鄰側壁之間形成灌漿密封。每個相鄰側壁包括肋狀物,每個肋狀物限定有狹槽。灌漿橋被布置在相鄰暗渠排水塊的相鄰側壁的相鄰狹槽中。還公開了一種布置過濾系統的方法以及一種灌漿橋。
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  • 02

    說明書

    1.一種過濾系統,包括:多個暗渠排水塊,其以并排構造布置從而在其間限定有間隙,所述間隙被構造成用來接收灌漿,每個所述暗渠排水塊包括頂壁,底壁和連接所述頂壁和所述底壁的多個側壁;和灌漿橋,其布置在相鄰暗渠排水塊之間的所述間隙中,以在所述灌漿橋和所述相鄰暗渠排水塊的相鄰側壁之間形成灌漿密封;其中每個所述相鄰側壁包括肋狀物,每個肋狀物限定有狹槽;其中所述灌漿橋被布置在所述相鄰暗渠排水塊的所述相鄰側壁的相鄰狹槽中。2.根據權利要求1所述的過濾系統,其中所述相鄰暗渠排水塊的每個所述相鄰側壁包括多個肋狀物,每個肋狀物限定有狹槽,其中所述灌漿橋被布置在所述相鄰暗渠排水塊的相鄰側壁的相鄰狹槽中,所述灌漿橋橫貫所述相鄰暗渠排水塊。3.根據權利要求1所述的過濾系統,還包括在水槽上的濾板,其中所述多個暗渠排水塊位于所述濾板上,并且所述灌漿橋基本上水平布置并且位于所述濾板和所述暗渠排水塊的所述頂壁之間。4.根據權利要求3所述的過濾系統,其中所述灌漿密封是足夠緊的,使得注入到所述間隙的所述灌漿不會到達所述水槽。5.根據權利要求1所述的過濾系統,其中所述灌漿密封是足夠緊的,使得注入到所述間隙中的所述灌漿滲透在所述灌漿橋和所述相鄰暗渠排水塊的所述相鄰側壁之間。6.根據權利要求1所述的過濾系統,其中所述狹槽限定在所述暗渠排水塊的所述底壁附近,使得所述灌漿橋被布置在所述暗渠排水塊的所述底壁附近。7.一種布置過濾系統的方法,其包括:以并排構造的方式來布置多個暗渠排水塊,以使得在其間限定有間隙,所述間隙被配置為接收灌漿,每個暗渠排水塊包括頂壁、底壁和連接所述頂壁和所述底壁的多個側壁;和在相鄰暗渠排水塊之間的所述間隙中布置灌漿橋,以在所述灌漿橋和所述相鄰暗渠排水塊的相鄰側壁之間形成灌漿密封;其中每個所述相鄰側壁包括肋狀物,每個所述肋狀物限定有狹槽;其中所述灌漿橋被布置在所述相鄰暗渠排水塊的所述相鄰側壁的相鄰狹槽中。8.根據權利要求7所述的方法,其中所述多個暗渠排水塊包括第一暗渠排水塊和第二暗渠排水塊,其中所述方法還包括:布置所述第一暗渠排水塊;將所述灌漿橋的第一端布置在所述第一暗渠排水塊的側壁的肋狀物的狹槽中;布置所述第二暗渠排水塊使得所述灌漿橋的第二端布置在所述第二暗渠排水塊的側壁的肋狀物的狹槽中。9.根據權利要求7所述的方法,其中所述多個暗渠排水塊包括第一暗渠排水塊和第二暗渠排水塊,其中所述方法還包括:并排布置所述第一暗渠排水塊和所述第二暗渠排水塊;將所述灌漿橋布置在所述第一暗渠排水塊和所述第二暗渠排水塊的相鄰側壁中的相鄰肋狀物中的相鄰狹槽中,使得所述灌漿橋的第一端布置在所述第一暗渠排水塊的所述狹槽中,并且所述灌漿橋的第二端布置在所述第二暗渠排水塊的所述狹槽中。10.根據權利要求7所述的方法,還包括將灌漿倒入到所述間隙中。11.根據權利要求7所述的方法,其中所述相鄰暗渠排水塊的每個所述相鄰側壁包括多個肋狀物,每個所述肋狀物限定有狹槽,其中所述灌漿橋布置在所述相鄰暗渠排水塊的所述相鄰側壁的所述相鄰狹槽中,其中所述灌漿橋橫貫所述相鄰暗渠排水塊。12.根據權利要求7所述的方法,其中所述過濾系統包括在水槽上的濾板,其中所述多個暗渠排水塊位于所述濾板上,并且所述灌漿橋基本上水平布置并且位于所述濾板和所述暗渠排水塊的所述頂壁之間。13.根據權利要求12所述的方法,其中所述灌漿密封是足夠緊的,使得注入到所述間隙的所述灌漿不會到達所述水槽。14.根據權利要求7所述的方法,其中所述灌漿密封是足夠緊的,使得注入到所述間隙中的所述灌漿滲透在所述灌漿橋和所述相鄰暗渠排水塊的所述相鄰側壁之間。15.根據權利要求7所述的方法,其中所述狹槽限定在所述暗渠排水塊的所述底壁附近,使得所述灌漿橋被布置在所述暗渠排水塊的所述底壁附近。
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專利技術附圖

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