本發(fā)明公開了一種鈦合金多孔氧化膜的制備方法、產(chǎn)品及應(yīng)用：在180g/L硫酸電解液中，加入一定量的草酸與葡萄糖酸鈉，采用經(jīng)過清洗后的TA2鈦合金作為陽極，純鈦片作為陰極，使用階梯式陽極氧化法進(jìn)行層狀的多孔膜層的制備。本發(fā)明制備的鈦合金陽極氧化膜有較好的摩擦磨損性能，且具備可調(diào)控孔徑的多孔結(jié)構(gòu)。微孔結(jié)構(gòu)的表面在模擬體液中有較好的羥基磷灰石沉積性能，能用于牙床、植入用埋片等生物體支架材料。

1.一種鈦合金多孔氧化膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟，(1)將鈦合金板進(jìn)行打磨、拋光后依次用去離子水和丙酮沖洗、烘干；(2)向稀硫酸溶液中加入葡萄糖酸鈉與草酸，攪拌均勻得陽極氧化溶液；(3)以步驟(1)所制備的鈦合金板為陽極，純鈦片為陰極，采用電化學(xué)兩電極體系，使用直流電源，分3段調(diào)控陽極氧化電位，每個階段陽極氧化7-15min，實(shí)現(xiàn)階梯式陽極氧化，陽極氧化電壓為40-80V；(4)將步驟(3)制得的陽極氧化膜進(jìn)行超聲清洗后真空干燥得鈦合金多孔氧化膜；步驟(2)中，稀硫酸溶液濃度為180g/L，葡萄糖酸鈉濃度為20g/L，草酸濃度為20-30g/L；步驟(4)中的超聲清洗液為4.0g/L氫氧化鈉，0.4g/L辛基酚聚氧乙烯醚，8.0g/L酒石酸鉀鈉，0.3g/L檸檬酸脂肪酸甘油酯的混合溶液。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦合金多孔氧化膜的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述的鈦合金板為TA2鈦合金板。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦合金多孔氧化膜的制備方法，其特征在于，步驟(1)具體為：將鈦合金板分別經(jīng)過800目、1000目、2000目、4000目打磨20分鐘后拋光，每次打磨和拋光后均使用去離子水進(jìn)行沖洗，最后用丙酮清洗并烘干。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦合金多孔氧化膜的制備方法，其特征在于，步驟(3)中，純鈦片與鈦合金板的面積比為2：1。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦合金多孔氧化膜的制備方法，其特征在于，還包括步驟(5)在37℃的恒溫箱中，將制備的鈦合金多孔氧化膜浸泡在模擬體液中2-8天。6.一種根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的鈦合金多孔氧化膜的制備方法所制備的鈦合金多孔氧化膜。7.一種權(quán)利要求6所述的鈦合金多孔氧化膜在生物支架材料中的應(yīng)用。